重要な基本テクノロジでの协业を通じて痴0.1认証&苍产蝉辫;
概要
2013年5月29日 カリフォルニア州マウンテンビュー発 - 半導体やエレクトロニクス?システムのイノベーションを加速させる開発用ソフトウェア、IP、技術サービスの世界的リーダーであるシノプシス(草榴社区.、Nasdaq上場コード:SNPS)は本日、TSMC社が同社の16nm FinFETプロセスDesign Rule Manual(DRM)とSPICE V0.1対応ツールとしてシノプシスのデジタル/カスタム设计ツール群を認証したと発表した。今回の認証は、FinFETデバイス内での3-D寄生情報の抽出とモデリングに関して両者が早期に開始した協業に基づくもので、それを元にデザイン?インプリメンテーション?ソリューション全般に拡張したものである。認証項目には、関連する全ての16nm配線ルール、ベリフィケーション?ランセット、抽出のための入力ファイル一式、Interoperable Process Design Kits(iPDK)が含まれる。今回の協業により、TSMC 16nmプロセスの早期適用企業各社は、FinFETテクノロジがもたらすメリットを活用して、より高性能で低消費電力なデザインを開発できるようになる。
認証されたGalaxyデザイン?プラットフォームは、TSMC 16nm V0.1デザインルールを包括的にサポートした各種機能を提供する。TSMC社は、シノプシスが提供するインプリメンテーション?ツール群がFinFETに対応したものであることを認証した。具体的には下記のツール群である。
シノプシス デザイン&マニュファクチャリング?プロダクト?マーケティング担当副社長 Bijan Kiani は次のように述べている。「当社とTSMC社との協業は、両社共通のお客様がFinFETテクノロジをスムーズに導入できるようにするという共通目標に焦点を当てています。この目標を達成するために、当社はデジタル设计ツールからカスタム设计/検証ツールに至るまで広範囲にわたってTSMC社と深く協力してきました」
TSMC社 デザイン?インフラ?マーケティング?シニアディレクタ Suk Lee氏は次のように語っている。「シノプシス社のツール群への当社16nmプロセス対応認証は、今後の当社のFinFETテクノロジ展開にとって重要な一里塚です。3-D FinFETデバイスのモデリングなど困難な作業があったため、両社の協業は、これまでのプロセス?ノードの場合よりも早い段階からスタートさせました。今回の認証により、早期適用企業各社様には、当社の最先端テクノロジを高い信頼性でご活用いただき、FinFETテクノロジの活用時期を早めることができるようになります」
シノプシスについて
草榴社区.(Nasdaq上場コード:SNPS)は、グローバル?エレクトロニクス?マーケットでテクノロジ?イノベーションを展開している。そのソフトウェア製品、IP、技術サービスは、エンジニアが直面する设计/検証/システム開発/製造の課題の解決を支援しており、シノプシスは電子设计自動化(EDA)ならびに设计資産(IP)のリーディング?カンパニーとなっている。1986年の創業以来、世界中のエンジニアがシノプシスのテクノロジを使用して、何十億もの半導体やシステム機器を设计開発している。詳細な情報は、より入手可能。
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