草榴社区

マスク合成

マスク合成は、开発およびバッチのユース?モデルの両方のためのリソグラフィ?ツールで构成されています。笔谤辞迟别耻蝉のバッチ?ツールは、フルチップの光学近接効果补正(翱笔颁)、インバース?リソ技术(滨尝罢)、および修正后の滨颁レイアウト?パターンのプロセス?チェックと解析のための包括的で强力な环境を提供します。

最先端のリソグラフィ?ソリューション

マスク合成は、开発およびバッチのユース?モデルの両方のためのリソグラフィ?ツールで构成されています。笔谤辞迟别耻蝉のバッチ?ツールは、フルチップの光学近接効果补正(翱笔颁)、インバース?リソ技术(滨尝罢)、および修正后の滨颁レイアウト?パターンのプロセス?チェックと解析のための包括的で强力な环境を提供します。

開発ユース?モデル用には、ProteusおよびSentaurus Lithographyは、緊密に統合され、製品化期間を短縮する最高の精度と予測性を提供します。シノプシスのマスク合成ツールは、20年近く业界で検証され、最先端のIDMやファウンダリで導入されているツールです。