最先端プロセス?テクノロジを用いた大规模デザインに向け、
拡张性、デザイン収束机能、処理速度を改善した最新バージョン
2011年1月31日 カリフォルニア州マウンテンビュー発 - 半導体设计?製造ツールならびにIPの世界的リーダーであるシノプシス(草榴社区.、Nasdaq上場コード:SNPS)は本日、Galaxyデザイン?プラットフォームの最新バージョン2010.12を発表した。Galaxy 2010.12は、“ギガスケール”の大規模デザインを処理するツール群に必要となる拡張性、デザイン収束機能、処理速度を実現するテクノロジを搭載している。Galaxyデザイン?プラットフォームを構成する各ツールは、マルチコア?コンピューティングを活用した実行速度の向上や、设计容量を向上させる各種の革新技術を搭載し、设计者に、高度に複雑な超大規模LSIの设计生産性向上のメリットを提供する。さらにGalaxyが提供するファウンドリ認証済みの包括的な28nmプロセス?ノード対応により、配線やDRC、RC抽出、リソグラフィの問題に対処できる。Galaxy 2010.12は、既に提供を開始している。
スマートフォンやタブレット端末、ネット接続型HDTVなどのコンシューマー製品の需要増加に伴い、半導体各社は、多数の機能が高度に集積された数百万インスタンス?レベルのギガスケールLSIを非常に短期間で開発しなければならなくなっている。Galaxyでは、論理设计、物理设计、サインオフ検証の工程が1つのデザイン?プラットフォームに統合されているため、最新のプロセス?テクノロジを用いた大規模LSIの開発に必須となる拡張性と処理速度を実現している。Galaxyデザイン?プラットフォームを構成する主要コンポーネントには以下のようなツールがある。
Galaxy 2010.12では、多くのコア?テクノロジに改善が施されているが、中でも実行速度や设计容量に大きな改善をもたらした新機能には下記のようなものがある。
シノプシス インプリメンテーション?グループ 上級副社長兼ジェネラルマネージャーのAntun Domicは次のように述べている。「次世代のギガスケールSoCの设计には、数百万インスタンスを扱える容量と迅速にデザイン収束を実現する機能、そして高速な処理能力を持つインプリメンテーション?ソリューションが必要になります。Galaxyデザイン?プラットフォーム 2010.12は、设计者の皆様に、現在最先端の28nmプロセス?テクノロジのサポートはもちろん、各種最先端ニーズに対応した包括的なソリューションをご提供しています」
提供可能时期
Galaxyデザイン?プラットフォーム 2010.12は、既に提供を開始している。また、究極の设计自動化環境であるシノプシスのLynxデザイン?システムには、主要なプロセス?テクノロジで実証済みの製造工程直結システムに加え、Galaxy 2010.12のツール群を組み込んだ製造実績豊富なRTL to GDSⅡ设计フローが組み込まれている。さらに、シノプシスの既存カスタマーは、シノプシスのオンライン技術サポート?センター SolvNet()にて2010.12の无偿トレーニングを受讲できる。
シノプシスについて
草榴社区. は、電子设计自動化(EDA)ソリューションの世界的リーダーであり、半導体の设计ならびに製造に用いられる各種のツール、设计資産(IP)、サービスを全世界のエレクトロニクス関連企業に提供している。システムレベルHW/SW设计検証、IP 、HWインプリメント、HW検証、HW製造、FPGA设计の各ソリューションで構成されるシノプシスの包括的な統合環境により、顧客企業が设计や製造段階で直面している重要な課題、すなわち消費電力や歩留まりの管理、システム设计段階からシリコン製造段階までを網羅する総合検証、開発期間の短縮といった課題を克服することが可能になる。各種テクノロジを駆使したこれらのソリューションを活用することにより、顧客企業は、開発コストや開発リスクを削減しつつ最高の製品を迅速に市場投入することが可能となり、競争力を高めることができる。カリフォルニア州マウンテンビューに本社を置き、事業所は北米、ヨーロッパ、日本、アジア、インドなど70ヶ所。詳細な情報は、より入手可能。
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