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础滨驱动的设计应用
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Taurus TSUPREM-4
先进的 1D 和 2D 工艺仿真器
Taurus TSUPREM-4 是用于开发半导体工艺技术并优化其性能的高级 1D 和 2D 工艺仿真器。Taurus TSUPREM-4 配有一套全面的高级工艺模型，可仿真半导体器件制造工艺步骤，减少高成本硅片投入完成的试验。此外，Taurus TSUPREM-4 还具备多种应力建模能力，可优化应力来改善器件性能。
优势
- 开发成本低廉、位于技术前沿的 CMOS、双极和功率器件制造工艺
- 通过精准仿真离子注入、扩散、氧化、硅化、外延生长、蚀刻和沉淀等工艺步骤，预测 1D 和 2D 器件结构特性，降低试验次数和技术开发时间
- 分析所有层因热氧化、硅化反应、热失配、蚀刻、淀积和应力释放而产生的应力过程记录
- 研究杂质扩散，包括氧化增强扩散 (OED)、瞬态增强扩散 (TED)、间隙缺陷聚合、杂质激活和剂量损失